WebDec 30, 2024 · 식각 공정 (Etching) 식각공정(Etching Process)이란 필요한 회로 패턴을 제외한 나머지 부분을 제거하는 과정이다. 이는 곧 반도체 회로패턴을 만든다는 의미도 된다. Etching을 나타내는 성능지수 (FOM : figures of merit)에는 크게 두가지가 있다. 첫번째는 식각 속도(Etch Rate)로 식각 된 두께(thickness)/식각 시간(time ... WebContribution to mass production of new hard mask strip process for the first time in the world. Evaluating mass production of new equipment by targeting niche markets in etching field. Contribution to dry process technology using plasma and gas replacing existing wet method technology. Development of key parts such as plasma sources for new ...

식각(Etching)공정 - 피에스케이 : 네이버 블로그

WebMar 21, 2011 · 반도체공정 중 주로 Etching(식각) 공정에서 Process Chamber 내의 온도조건을 안정적으로 제어하는 온도조절장비 Asher( 에셔 ) 건식 식각이나 이온 주입 등에 의해 굳어진 감광액의 건식 제거 (Dry Strip) 용 반도체 전공정 장비 leaching planus

PSK - The global leader in the semiconductor equipment industry

Web반도체 공정 장비의 ... 세계 시장점유율 1위 SUPRA는 입증된 성능을 통하여 dry strip을 안정적으로 처리할 수 있으며, 가장 작은 풋프린트(footprint)로 설계되어 높은 웨이퍼 처리량 및 낮은 장비유지비용을 제공합니다. WebDry Strip. 폭넓은 주요 포토레지스트 제거 분야에 필요한 공정 유연성을 갖췄습니다. Advanced Memory, Interconnect, Patterning, Transistor. Web기대효과 (Effect) : 개발과정에서 집약된 설계 기술로 인해 Dry Strip용 플라즈마 소스에 대한 이후의 추가적인 소스 설계 및 개발과정에도 축적된 노하우가 발생할 수 있으며, 설계 … leaching or leeching